第121章 三大件的解決方案

 現在光刻的光有了，

 下一步就是把光，通過一個光學系統，收集並投影到塗上了光刻膠的硅片上面。

 這個光學系統，也是整臺光刻機中，造價成本佔比最大的。

 這部分康馳準備對大秦光學的鏡頭生產線，進行升級，然後把它給拆了，直接獲得光刻機鏡片和反射鏡製造，所需要的大部分設備零件。

 這麼做的效率無疑會高很多，

 而且升級後的生產線，估計連解析項目都沒有，

 因為裡面的大部分技術，康馳在解析光刻機的時候，就已經得到了，他本人擁有非常大的解釋空間。

 唯一的缺點就是，需要他在接下的項目中，進行一定的混淆視聽，把這些拆分開的組件，神不知鬼不覺地摻到整個項目裡去。

 嗯，

 就是欺負嚴輝他們對光刻機沒啥研究，

 到時候估計也是康馳讓他們幹什麼，他們就幹什麼，思考空間並不多。

 至於光刻機最後的一個關鍵系統，則是承載硅片的雙工件臺系統。

 它的工作原理很簡單，就是在光刻中不斷的挪動硅片的曝光部位，但其中的技術含量其實非常大。

 因為這個工作平臺必須快、準、狠。

 速度，決定了光刻機的效率，

 移動太慢了，光刻機的產量就不行，

 這就要求它，在高速移動後，還得迅速且精準地停下，

 停留的位置誤差，還得在1nm以內，

 但凡偏差大一點，整個晶圓就直接報廢了！

 這啥概念？

 大概就是一輛高速行駛的汽車，突然緊急剎停，然後停下位置誤差還不能超過1毫米。

 不過這個難點，在今年5月份的時候，剛好被鉿工大給搞定了，

 他們研發出來的真空高速超精激光干涉儀，位移的分辨率達到了驚人的5pm，位移誤差控制在了30pm！

 要知道，1000pm才等於1nm！

 0.03nm的位移誤差，簡直牛逼到不行！

 康馳簡直懷疑，他們是不是和自己一樣開了掛……

 講真，華國能人還是挺多的，

 如果不靠系統，康馳自己雖然也有一定的把握可以攻克這種技術，但時間就不知道要多久了……

 所以康馳一直也不斷地在提醒自己，雖然系統確實好用，但自己學習和理解的腳步同樣不能停下。

 這不但是為了在解析技術的時候，減輕自己的痛苦，免得突然暴斃，更是為以後萬一出現精通點不夠，需要自研的情況出現時，不至於兩眼一抹黑啥也幹不了。