第120章 EUV!
同時為了保住在華國市場,他們還瘋狂向華國出口duv光刻機。
綜上分析,其實華國目前真正缺的,不是中低端的duv光刻機,而是7納米以內高端製程的euv光刻機。
這不但體現在進口光刻機,國產光刻機同樣如此。
目前魔都微電子已經可以量產,90nm製程的duv光刻機了,
28nm的duv浸沒式光刻機,也已經有了工程樣機,達到量產也已經是指日可待了。
而一旦徹底掌握了浸沒式技術,再繼續壓縮製程,也就變成水到渠成了。
比如康馳手上這塊14納米制程的顯卡,只要在28nm的duv浸沒式光刻機基礎上,加個雙工作臺模式就能達到,
因此屬於國內其它研發團隊,可能很快就能突破的技術。
所以從必要性上看,也難怪康馳會考慮有沒有解析它的必要。
而以如今的康馳的成就,就算造出了evu光刻機,想必大家雖然驚訝,但肯定不會覺得他是外來物種……
想到這裡,康馳果斷選擇了給這張顯卡升級!
通用經驗-3196!
隨著一道微光閃過,這張顯卡的外形再次發生了變化。
【物品:硅晶圖像處理器】
【製造者:康馳】
【物品等級:8】
【經驗:0/9600】
【物品狀態:完好】
【物品參數:9納米制程工藝,主頻1.6ghz,12gb ddr6顯存】
【解析項目:可解析】
【通用經驗:60042】
【精通點:43.6】
9納米?
這個製程就有點曖昧了啊……
屬於euv和duv都能造的製程。
不過最低7nm,畢竟只是浸沒式duv光刻機的理論最小工藝節點,也
就是技術壓榨到極致才能做到的。
以系統的逼格之高,應該不至於這麼小氣,把一項技術壓榨到這麼極限給自己吧?
所以這個9納米制程,大概率還是euv光刻機造的。
康馳打開解析面板,看到上面寫著‘9納米光刻機制造工藝’需要消耗40點精通點,比之前多出10點也進一步佐證了康馳的猜測。
好在康馳這段時間搓了挺多鏡頭生產線,以及採油蟲的零部件生產設備,賺了十多點的精通點。
不然這次還真不一定夠精通點解析這玩意……
精通點-40!
隨著康馳選擇解析,
一股龐大的信息如同海浪一般瘋狂地往他腦海席捲而去。