第120章 EUV！

 同時為了保住在華國市場，他們還瘋狂向華國出口duv光刻機。

 綜上分析，其實華國目前真正缺的，不是中低端的duv光刻機，而是7納米以內高端製程的euv光刻機。

 這不但體現在進口光刻機，國產光刻機同樣如此。

 目前魔都微電子已經可以量產，90nm製程的duv光刻機了，

 28nm的duv浸沒式光刻機，也已經有了工程樣機，達到量產也已經是指日可待了。

 而一旦徹底掌握了浸沒式技術，再繼續壓縮製程，也就變成水到渠成了。

 比如康馳手上這塊14納米制程的顯卡，只要在28nm的duv浸沒式光刻機基礎上，加個雙工作臺模式就能達到，

 因此屬於國內其它研發團隊，可能很快就能突破的技術。

 所以從必要性上看，也難怪康馳會考慮有沒有解析它的必要。

 而以如今的康馳的成就，就算造出了evu光刻機，想必大家雖然驚訝，但肯定不會覺得他是外來物種……

 想到這裡，康馳果斷選擇了給這張顯卡升級！

 通用經驗-3196！

 隨著一道微光閃過，這張顯卡的外形再次發生了變化。

 【物品：硅晶圖像處理器】

 【製造者：康馳】

 【物品等級：8】

 【經驗：0/9600】

 【物品狀態：完好】

 【物品參數：9納米制程工藝，主頻1.6ghz，12gb ddr6顯存】

 【解析項目：可解析】

 【通用經驗：60042】

 【精通點：43.6】

 9納米？

 這個製程就有點曖昧了啊……

 屬於euv和duv都能造的製程。

 不過最低7nm，畢竟只是浸沒式duv光刻機的理論最小工藝節點，也

就是技術壓榨到極致才能做到的。

 以系統的逼格之高，應該不至於這麼小氣，把一項技術壓榨到這麼極限給自己吧？

 所以這個9納米制程，大概率還是euv光刻機造的。

 康馳打開解析面板，看到上面寫著‘9納米光刻機制造工藝’需要消耗40點精通點，比之前多出10點也進一步佐證了康馳的猜測。

 好在康馳這段時間搓了挺多鏡頭生產線，以及採油蟲的零部件生產設備，賺了十多點的精通點。

 不然這次還真不一定夠精通點解析這玩意……

 精通點-40！

 隨著康馳選擇解析，

 一股龐大的信息如同海浪一般瘋狂地往他腦海席捲而去。