第六百章：高瞻遠矚？

 光刻機是工業皇冠上面最閃亮的一顆明珠——畢竟會自己發光。

 只不過，這顆明珠的技術和各種部件的科技程度很高，但是這顆明珠的設備運行原理其實，比較簡單。

 首先是最核心的光刻機光源部件。

 在激光器發光之後，就會經過濾波和矯正，然後進入能量控制器、光束成型裝置等入高精尖設備，經過處理之後的光，才能夠進入光掩膜臺。

 光刻機有一個名稱，又叫做掩模對準曝光機，曝光系統高精尖機器設備，採用的就是類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到硅片上。

 光掩膜臺這個部件上面，就會放置半導體芯片設計公司設計出來的光掩膜，之後經過物鏡投射到曝光臺。

 曝光臺上，則是放置著8寸或者12英寸晶的高純度晶圓片，這些晶圓片上面都塗抹有對應的光刻膠，因為光刻膠具有光敏感性，紫外光就會在晶圓上蝕刻出電路。

 阿斯麥公司之所以直接下場，德國光學蔡司、英特爾、德州儀器這些企業之所以會推動針對大夏新科的行動，就是因為大夏新科此前已經解決了晶圓製造和光刻膠調配的技術難關。

 同時，大夏新科又是藍星半導體芯片設計行業頂尖的存在。

 距離這個可怕的惡魔企業統治半導體產業，只差光刻機這一個環節了。

 因為激光器這個部件負責光源產生，而光源對製程工藝擁有決定性影響，從nuv近紫外激光進入到duv深紫外激光，再到現在阿斯麥公司剛剛聯合全球科學家、工程師開發出來的euv極紫外光。

 它們本來已經放下了一道道柵欄，阻止後來者超越自己。

 但是哪裡想到會出現章如鏡這種“怪胎”，在西方半導體行業混跡大半輩子，臨了席捲一堆技術，和自己培養的工程師，跑到大夏聯邦去建工廠，甚至還利用人脈，搞到了duv深紫外激光的光刻機和一整套芯片代工技術？