第五百七十五章：設備

 在繁榮的經濟發展陽光之下，是大夏聯邦的高精尖科技一直都被西方企業“嚴防死守”。

 當初開發芯片設計項目，這些大夏聯邦的高校教授和海歸員工們還能夠提建議，給素材，但是當科技進步的步伐來到了半導體產業的光刻機設備和光源技術的開發時，已然步履維艱。

 要達到國際先進製造水平，並不是一日之功可畢。

 周瑜雖然一直不想過多參與半導體行業的技術發展當中，但是隨著國外實驗室數據和技術方案給出的技術級別已經達到世界先進水平後，他已然沒有辦法“坐以待斃”。

 畢竟國外實驗室並非是阿拉丁神燈，不可能存在項目都還沒有做，就冒出數據和方案的情況。

 而且再進一步，就是真的技術革新了，國外頂級實驗室要是有這技術，不早就成立公司開始賺大錢了？

 所以在陸續的交流合作當中，周瑜開始逐漸展露其在高精尖製造領域的敏銳嗅覺和天才想法。

 “阿斯麥公司的euv光刻機，採用的是高能脈衝激光轟擊液態錫靶，形成等離子體，誕生波長13.5納米的euv光源，根據這份數據，其至少有250瓦的功率。

 隨著半導體芯片工藝的製程越來越小，euv光刻機的光源功率也必定會逐步上升，別看現在才兩百多瓦，後續很可能達到千瓦級別。

 我們要想在穩態微聚束光的ssbm光源上面做文章，除了深入研究這些理論數據之外，還要必須進行足夠多的實驗，才能夠發展技術，超越國外那些機構實驗室！

 而且穩態微聚束光的ssbm光源上升潛力比euv光源更大，並且具備向更短波長擴展的能力。

 下個月，新的設備和資金就能到位，到時候咱們就一邊學，一邊做實驗，絕對能夠攻破難關！”

 錢，大夏新科現在是不缺的。

 人，在人力資源部門全球瘋跑，高校師生們的共同努力下，雖然還有缺口，但是缺口並不算太大。