第106章 同樣受限

他的認知有所差異，於是趕緊在腦海中詢問ai關於光刻機對稱光路設計的相關信息。為了避免出現錯誤回答，他分別在幾個大模型中多次詢問，對比了全部答案才確信瞭解。

 原來最早的投影式光刻機為掃描投影曝光，投影成像的比例為1:1。在生產的時候只通過一次掃描過程，就直接完成整個晶圓的曝光，這種生產方式屬於逐片曝光。

 在開始的時候使用這種方式還行，不過由於技術的進步，晶圓尺寸每隔幾年就會增加，然後問題就出現了。

 因為這種逐片曝光的方式，有一個最嚴重的問題，就是如何在越來越大的晶圓上形成精準圖像。除開需要製造出更精準的光學器件外，1:1的投影成像比例也是一個問題。

 因為摩爾定律表明，芯片的製程進步速度很快。使用這種1：1投影成像比例的光刻機就要求與芯片同樣精度、且投影面積更大的掩模版，這種要求使得更加精細的掩模版製作難度顯著提升。

 張紅旗搞明白了這一點後，馬上追問道：

 “這款設備聽起來還行，不過我很好奇，現在最先進的光刻機是哪一家的，為什麼不考慮他家的，是設備緊俏還是美國那邊在銷售上對我們有所限制？”

 張紅旗問的這個問題正是鮑啟江最近幾天煩惱的地方，於是他直接就說明了這幾天他遇到的問題。

 “更先進的那家也是美國公司，那家叫gca的公司在1978年推出的步進重複式光刻機。根據他們的宣傳，使用他家的光刻機，可以大量節省在掩模版上的投入。

 他們宣稱他們的光刻機可以按10：1的比例投影，就因為這個，製作掩模版的時候就不用與集成電路一樣精細，製作成本可以大大降低。

 不過可惜的是，現在購買這款光刻機要排隊，銷售到香江來除了要審批外，還要接受他們派技術人員過來進行管理。”